2024年度須田研追いコンを開催しました。卒業生の新天地でのご活躍を祈念いたします。

情報デバイス工学講座 先端デバイスグループ
2024年度須田研追いコンを開催しました。卒業生の新天地でのご活躍を祈念いたします。
楠木菜水さん(M1)が2024年度 修士論文中間発表会 優秀賞を受賞しました。発表タイトルは 「GaN縦型トレンチMOSFETに用いられるnpn構造の電気特性におけるヒステリシスの起源」です。
須田研の全ての代の学生が集まり、親交を深めました。
米国ハワイ州にて2024/11/3-8に開催されたIWN 2024 (International Workshop on Nitride Semiconductors)において、当研究室から以下の発表が行われました。 653(INVITED) Characterization of Extrinsic and Intrinsic Point Defects in Homoepitaxial GaNJun Suda, Masahiro Horita;Nagoya University, Nagoya, Aichi, Japan. 270Effects of Subsequent Annealing on Etching Resistance and Electrical Properties of n-type GaN Films Deposited by Reactive Sputteri …
念願の第一回研究室旅行を開催できました。一泊二日で伊勢・志摩を巡り、研究室メンバーで楽しい時間を過ごしました。
角田健輔くん(D2)と北川和輝くん(D1)が第71回(2024年春季)応用物理学会講演奨励賞を受賞しました。発表タイトルは、「Mgイオン注入p-GaNにおけるNイオン連続注入の補償ドナー濃度低減効果」(角田くん)および「Mgチャネリングイオン注入および超高圧アニールを用いて作製した縦型GaN JBSダイオード」(北川くん)です。
ハイブリッド(東京都市大学 世田谷キャンパス+オンライン)で2024/3/22~3/25に開催される第71回応用部物理学会春季学術講演会において当研究室からは以下の発表を行います。
林慶祐くん(M1)と平田拓巳くん(M1)が2023年度 修士論文中間発表会 優秀賞を受賞しました。発表タイトルは、「酸素イオン注入したn型GaNにおける、バイアス印可に伴う実行ドナー密度変動の期限に対する考察」(林くん)および「長時間超高圧アニール(UHPA)によるAlSiO/n-GaN MOS界面特性の改善」 (平田くん)です。